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【工作內(nèi)容】 - 負(fù)責(zé)納米級光刻圖形的設(shè)計與掩膜版的優(yōu)化工作，確保圖形質(zhì)量達(dá)到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。 - 進(jìn)行CD均勻性檢測，執(zhí)行套刻精度驗證，保證光刻工藝的穩(wěn)定性和一致性。 - 編寫光刻膠選擇指南，制定曝光參數(shù)矩陣，提高光刻效率和成品率。 - 監(jiān)控并控制圖形缺陷密度，使其保持在0.1個/mm2以下，以確保產(chǎn)品質(zhì)量。 - 實施光刻誤差溯源分析，提出有效的補(bǔ)償方案，持續(xù)改進(jìn)光刻工藝。 - 參與光刻相關(guān)技術(shù)的研發(fā)工作，推動公司技術(shù)水平的進(jìn)步。 【任職要求】 - 擁有微電子工程或相關(guān)領(lǐng)域的碩士及以上學(xué)位，具有扎實的專業(yè)基礎(chǔ)。 - 熟練掌握EBL（電子束光刻）和納米壓印技術(shù)，具備豐富的實際操作經(jīng)驗。 - 至少5年以上的亞波長光刻工作經(jīng)驗，熟悉先進(jìn)的光刻設(shè)備和工藝流程。 - 具備良好的數(shù)據(jù)分析能力和問題解決能力，能夠獨立完成光刻工藝中的各項任務(wù)。 - 工作態(tài)度嚴(yán)謹(jǐn)認(rèn)真，具有團(tuán)隊合作精神和較強(qiáng)的溝通協(xié)調(diào)能力。